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                      復合式鹽霧試驗箱中六大影響鹽霧試驗結果因素

                      更新時間:2015-06-23      點擊次數:2285
                        復合式鹽霧試驗箱是采用鹽霧腐蝕的方式來檢測被測樣品的分別耐腐蝕的可靠性,鹽霧是指大氣中由含鹽微小液滴所構成的彌散系統,是人工環境三防系列中的一種,很多企業產品需模擬海洋周邊氣候對產品造成的破壞性,所以鹽霧試驗箱應運而行。
                        
                        有些客戶反應復合式鹽霧試驗箱的測試結果不準確,但是又不知道是什么原因?小編特地列出六大影響鹽霧試驗結果的主要因素。包括:試驗溫濕度、鹽溶液的濃度、樣品放置角度、鹽溶液的pH值、鹽霧沉降量和噴霧方式等。
                        
                        一、試驗溫濕度
                        
                        電工委員會IEC60355:1971標準指出:“溫度每升高10℃,腐蝕速度提高2~3倍,電解質的導電率增加10~20%”,關于鹽霧試驗對于腐蝕濕度的界面,通常認為是70%,如果試驗中,相對濕度高于70%,鹽將潮解而形成導電性能良好的電解液,而反之,當相對濕度低于70%,腐蝕速度相應降低,這是因為試驗環境中的濕度增加會解析出結晶鹽顆粒。
                        
                        二、鹽溶液的濃度
                        
                        不同的試驗材料和不同材料的不同覆蓋層,需要的鹽溶液濃度是不一樣的,以鋼、鎳、黃銅為例,這種材料的金屬腐蝕速度,當鹽溶液濃度在5%以下時腐蝕速度會隨著濃度增加而增加;當鹽溶液濃度在5%以上時腐蝕速度會隨著濃度增加而降低,出現這種情況的原因主要是與鹽溶液里的氧含量有關,而鹽溶液里的氧含量則與鹽的濃度有關,當氧在低濃度范圍的鹽溶液里,氧的含量會隨著鹽濃度的增加而增加,但是,如果把鹽溶液的濃度增加到5%時,溶液里的氧含量則會相對飽和,這時如何持續提高鹽溶液的濃度,里面氧的含量則相應下降。氧含量下降,氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。但對于鋅、鎘、銅等金屬,腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。
                        
                        三、樣品放置角度
                        
                        鹽霧試驗中的鹽霧沉降方向是接近垂直的,所以如果想讓試驗件的表面接觸到更多的鹽霧,需要考慮樣品放置的位置和角度,如果試驗件是平板狀的物體,想zui大面積地接觸鹽霧,得出的試驗結果,GB/T2423.17-93標準有這方面的規定和建議:試驗件的受試面與垂直方向放置,這個角度zui為準確。
                        
                        四、PH值
                        
                        由于因為復合式鹽霧試驗箱中環境中,有很多因素的影響,試驗中鹽溶液的pH值會發生改變,因為這樣,所以不管是國內還是國外的鹽霧試驗標準中,都有對于鹽溶液的PH值范圍的規定,并指出,穩定的PH值,對于提高鹽霧試驗結果的準確有著很大的重要性。
                        
                        五、鹽霧沉降量
                        
                        在自然環境中,有90%以上的鹽霧顆粒直徑在1微米單位以下,想讓鹽霧接觸的面積更大,就要讓鹽霧顆粒盡量地更小,只有鹽霧顆粒直徑越小,金屬被吸附的氧量越多,造成對于試驗件的腐蝕也就越強。有這方面的研究機構做過這方面的試驗,得出的結果是直徑1微米的鹽霧顆粒表面所吸附的氧量與顆粒內部溶解的氧量是相對平衡的。
                        
                        六、噴霧方式
                        
                        不同的噴霧方法具有不一樣的優點和缺點,像氣壓噴射法和噴塔法這兩種噴霧方法,優點就是因為更傳統,所以掌握的公司就多,容易實施,而缺點就是鹽霧沉降量均勻性較差,鹽霧顆粒直徑較大。
                        
                        復合式鹽霧試驗箱使用時的環境要求
                        
                        1、設備周邊必須有600mm以上的空間;
                        
                        2、設備無陽光直射或其他熱源直接輻射;
                        
                        3、設備周圍的溫度要保持在15℃~30℃;
                        
                        4、設備周圍無高濃度粉塵及腐蝕性物質;
                        
                        5、設備周圍無強烈氣流,當周圍空氣需強制流動時,氣流不應直接吹到箱體上;
                        
                        6、設備使用電源電壓的波動≤±10%。

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